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Plasma enhanced CVD vuoto macchina di rivestimento a semiconduttore con DIA.300mm camera

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Attributi chiave

Altri attributi

Tipo
Chemical vapor deposition
Tipo di macchina
Chemical vapor deposition
Video in uscita-ispezione
Fornito
Macchine Rapporto di Prova
Fornito
Tipo di Marketing
Prodotto caldo 2019
Garanzia di componenti di base
1 ANNO
Componenti di base
Pompa, Di potenza RF
Punto d'origine
Henan, China
Garanzia
1 ANNO
Chiave di Punti di Vendita
Prezzo competitivo
Industrie applicabili
Lab
Showroom Posizione
Nessuno
Circostanza
Nuovo
Rivestimento
Rivestimento vuoto
Marca
TN
Tensione
220AVC/50hz
Potere (W)
Ustomized
Dimensione (L*W*H)
1100 millimetri * 800 millimetri * 1100 millimetri
Nome del prodotto
PECVD di vuoto macchina di rivestimento
Applicazione
Deposizione di film sottili di nitruro di silicio, in silicio amorfo
Camera di materiale
In acciaio inox
Dimensioni camera
Diam300mm X 300 millimetri
Finestra di visualizzazione
Diam100mm con deflettore
Pompa a vuoto
Rotativo a palette pompa + Turbo pompa molecolare
Limitazione di vuoto
10-6Pa
Vuoto (deposizione)
0.133 ~ 133Pa
Di potenza RF
13.56MHz,500W (automatch)
Controllo di flusso
Di massa misuratore di portata (di default Ar,0 ~ 200sccm)
Dopo-Servizio di vendita Fornito
Video di supporto tecnico, Supporto on-line
Dopo il Servizio di Garanzia
Video di supporto tecnico, Supporto on-line
Posizione di Servizio locale
Nessuno
Peso
Su misura
Certificazione
CE

Imballaggio e consegna

Pacchetto
Plastic paper inside, polyfoam filled, plywood box outside
Orificio
Zhengzhou, Beijing, Shanghai etc.

Capacità di fornitura

Capacità di fornitura
100 Insieme/insiemi per Month

Tempi di consegna

Quantità (insiemi)1 - 1 > 1
Tempo previsto (giorni)30Da negoziare

Personalizzazione

Logo personalizzato
Min. ordine: 1
Imballaggio su misura
Min. ordine: 1
Grafici di personalizzazione
Min. ordine: 1

Descrizioni dei prodotti da parte del fornitore

1 - 1 insiemi
126.870,00 USD
>= 2 insiemi
126.850,00 USD

Varianti

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