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Forno a tubo PECVD per deposito di vapore chimico potenziato al Plasma 1200C di alta qualità per nanosintesi di carbonio

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Attributi chiave

Specifica di base del settore

Garanzia
Un anno di

Altri attributi

Punto d'origine
Henan, China
Classificazione
Laboratorio di impianti di riscaldamento
Supporto personalizzato
OEM
Marca
XINKYO
Numero del Modello
XY-1200PECVD
Nome del prodotto
Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition forno
Tipo
1200C PECVD tubo forno
Max. Temperatura
1200 ℃
Temperatura di funzionamento
<= 1100 ℃
Materiale del tubo
Di elevata Purezza Tubo di Quarzo
Tensione
AC 220V 50/60Hz
Max vuoto
10-3pa
Di controllo della temperatura
30 segmenti Programmabile di Controllo
Tubo diamter
40mm,60mm,80 millimetri, 100 millimetri o come vostri requisiti
Gas sistema di
Tre o quattro canali di gas, ossigeno, azoto, argon agire.

Imballaggio e consegna

Pacchetto
Plastic paper inside, Polyfoam filled, Wooden box outside.
Orificio
Shanghai or any Port of China

Capacità di fornitura

Capacità di fornitura
200 Insieme/insiemi per Month

Tempi di consegna

Quantità (insiemi)1 - 2 > 2
Tempo previsto (giorni)35Da negoziare

Personalizzazione

Logo personalizzato
Min. ordine: 1

Descrizioni dei prodotti da parte del fornitore

Quantità minima d'ordine: 1 insieme
9.999,00 USD - 19.999,00 USD

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