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Al Plasma-enhanced Chemical vapor Deposition Macchina per il Rivestimento in A Semiconduttore

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Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.6 yrsCN
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Attributi chiave

Altri attributi

Tipo
CVD
Tipo di macchina
Al Plasma-enhanced CVD
Video in uscita-ispezione
Fornito
Macchine Rapporto di Prova
Fornito
Tipo di Marketing
Nuovo Prodotto 2020
Garanzia di componenti di base
1 ANNO
Componenti di base
PLC, Pompa
Punto d'origine
Henan, China
Garanzia
1 ANNO
Chiave di Punti di Vendita
Prezzo competitivo
Industrie applicabili
Altri, R & D
Showroom Posizione
Stati Uniti
Substrato
Acciaio
Circostanza
Nuovo
Rivestimento
Rivestimento vuoto
Marca
TN
Dimensione del principale camera di deposizione
450 millimetri x 400 millimetri (diametro x altezza)
Dimensione del substrato da tavolo
125 millimetri (diametro)
Substrato di movimento
Velocità di rotazione 0-20RPM, fluido magnetico di tenuta
La deposizione di temperatura
Dalla temperatura ambiente a 700 ℃ regolabile e controllabile
Di alimentazione
Di potenza RF
Massimo grado di vuoto
8.0x10-5Pa
Sistema di controllo
Automatico di vuoto
Sistema di vuoto
Turbo-pompa molecolare di alta sistema di vuoto
Acqua di raffreddamento
Di raffreddamento di circolazione acqua
Gas sistema di
Nessun rumore della pompa di aria
Dopo-Servizio di vendita Fornito
Video di supporto tecnico, Supporto on-line
Dopo il Servizio di Garanzia
Video di supporto tecnico, Supporto on-line
Posizione di Servizio locale
Stati Uniti
Certificazione
CE

Imballaggio e consegna

Pacchetto
Plastic paper inside, Polyfoam filled, Wooden box outside
Orificio
china main port,erlianhaote,alashankou.

Capacità di fornitura

Capacità di fornitura
100 Insieme/insiemi per Month
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Tempi di consegna

Quantità (insiemi)1 - 1 > 1
Tempo previsto (giorni)60Da negoziare

Descrizioni dei prodotti da parte del fornitore

>= 1 insiemi
40.000,00 USD

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