| Marca: TECHNOL | Numero di modello: TSU--800 |
La macchina di vuoto TSU-800 è magnetron stabilito che polverizza, il deposito del plasma dell'multi-arco, la tecnologia di deposito di vapore integra tre. Può essere usata per preparare a film metallico a un solo strato o a più strati, a strato magnetico, la pellicola a semiconduttore, la pellicola, la pellicola dell'isolamento, pellicola di registrazione magnetica. pellicola di registrazione ottica, una pellicola conduttiva trasparente, rivestimento a temperatura elevata del superconductor. Inoltre nelle varianti, il rivestimento della superficie della particella sull'acciaio del silicone. Adatto ad imprese medie di insegnamento e degli istituti di ricerca scientifici, di ricerca, piccole e che placcano elaborazione e produzione di varie pellicole
Denominazione | Macchina di rivestimento multifunzionale di serie di TSU | ||
tipo | Un tipo | L$tipo B | L$tipo C |
formato dell'alloggiamento | Φ800mm×H800mm | Φ1000mm×H1000mm | Φ1200mm×H1200mm |
Alimentazione elettrica | 3000W impulso bipolare generator*2 Multi-Arco target*2 di potere 4000W obiettivo elettromagnetico *1 di potere di potere *1 di evaporazione 1000W | 4000W impulso bipolare generator*2 Multi-Arco target*4 di potere 4000W potere *1 di evaporazione 2000W Obiettivo elettromagnetico *1 di potere | 5000W impulso bipolare generator*2 4000W potere *1 di evaporazione dell'Multi-Arco target*8 3000W Obiettivo elettromagnetico *1 di potere |
Struttura di obiettivo di polverizzazione | obiettivo magnetico permanente *1+Φ60mmElectromagnetic target*1+ targets*2 rettangolare +Φ65mmMulti-Arc target*2 di evaporazione electrodes*2 +Φ50.8mm di raffreddamento ad acqua | Multi-Arco rettangolare elettromagnetico magnetico permanente target*4 dell'obiettivo *1+Φ60mm target*1+ targets*2+Φ65mm di evaporazione electrodes*2+Φ50.8mm di raffreddamento ad acqua | Multi-Arco rettangolare elettromagnetico magnetico permanente target*8 dell'obiettivo *1+Φ60mm target*1+ targets*2+Φ65mm di evaporazione electrodes*2+Φ50.8mm di raffreddamento ad acqua |
Alloggiamento di vuoto | Il verticale Pre-apre le strutture, rotazione modePublic di rotazione di funzionamento del backWorkpiece dei sistemi di ventilazione, 0~20rpm, gamma composita measurementDigital controllata registrabile di misura del calibro di vuoto di CVTVacuum da atmosferico a 10-5Pa | ||
Metodo del rivestimento | Deposito +Evaporation del plasma di evaporazione +multi-arc di polverizzazione del magnetron | ||
Tensione di polarizzazione negativa | 0-1000V 12KW20KW | ||
Modo del rivestimento | Metal le pellicole, la pellicola di reazione, la pellicola a strato magnetico e a più strati, la pellicola dielettrica, la pellicola organica, il rivestimento della polvere, ecc. | ||
Campione del pezzo in lavorazione | Raffreddamento ad acqua, riscaldamento, giro disponibile e rotazione in grado di provare il monitor di spessore. | ||
Pressione bassa | 8×10-5Pa o 8×10-4Pa | ||
Componenti di sistema di vuoto | pump+ molecolare sradica la pompa + pompa meccanica o pompa di diffusione + pompa delle radici + pompa meccanica | ||
Velocità di pompaggio | inferiore o uguale a 20min dall'aria a 10-3Pa | ||
uniformità della membrana | ≤±5% | ||
Obiettivo e potere dell'obiettivo | Utilizzazione 30%~60% dell'obiettivo | ||
Temperatura di cottura del pezzo in lavorazione | Temperatura ambiente controllata registrabile 200 a ° C (controllo di temperatura di PID) | ||
Controllo di vuoto | Un tipo è manuale, BC tipo è controllo automatico | ||
controllo di gas | Tre insiemi del sistema di controllo del gas, ± 0.1sccm di esattezza di controllo di flusso del gas 5L/3L/2L. | ||
protezione | L'apparecchiatura sta guidanda, nell'ambito del consolidamento, flusso, dispositivi di protezione di sovratensione | ||
| power≥20KW, area9m2 | ||
Dispositivi di opzione | La fonte di ione del Corridoio dei dispositivi di spessore dell'oscillatore di quarzo e le macchine dell'acqua di circolazione pompano, PLC, il controllo del PC, anti-lavare e la polverizzazione | ||
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